膜厚仪具有无损，可靠，高生产力，高灵活性等优点，可用来定性分析样品的元素组成，也可用于镀层和镀层系统的厚度测量，广泛应用于电路板、半导体、电镀、五金产品、汽车零部件、卫浴洁具、珠宝等工业中的功能性镀层电镀槽液中的成分浓度分析。

　　膜厚仪测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。

　　膜厚仪的技术功能：

　　微电脑控制系统，大液晶显示、PLC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。

　　严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。

　　测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。

　　支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。

　　系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。

　　实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。

　　配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。

　　系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。

　　标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。